AIMD · MRI-Compat KB

US8989870B2 Tuned energy balanced system for minimizing heating and/or to provide EMI protection of implanted leads in a high power electromagnetic field environment

摘要

  • 问题:MRI 脉冲 RF 场以天线作用耦合到植入导线,驱动导线分布损耗及远端电极-组织界面欧姆热。单独在远端串入高阻 bandstop filter 会形成近开路端接,使残余 RF 能量沿导线反射并在滤波器近端形成新的温升位置。
  • 方案:在导线与 energy dissipating surface(EDS)之间接入无源 diversion circuit;分流支路的电抗与导线电抗反向,电阻与导线等效电阻匹配,使目标 RF 能量转入 EDS。远端可另设电感或并联 LC bandstop 作 impeder。
  • 效果:证据由此前 distal bandstop 的温升测试、FIG. 43 的低通衰减曲线及 FIG. 52 的 64/128 MHz 双陷波曲线构成;所要求保护系统的直接证据等级为电路原理与频域设计曲线。
  • 形态:89 claims;diverter 可为电阻、电容、低通网络或一只/多只串联 LC trap,EDS 可为 AIMD 壳体、独立导电环、导管鞘/手柄、paddle 背面或颅骨附近壳体。系统覆盖 cardiac lead、DBS、SCS、cochlear implant、probe/catheter 与 abandoned lead。

原理与方案

标注:引号内英文 = 专利 raw 原文;[推导] = 由专利参数与电路模型推出的结论,非专利原文;[推断] = 按 RF/工艺常识的判断,专利未述;[待确认] = 专利未给、需另行定夺的输入或判断。

失效机理

MRI 脉冲 RF 电场沿导线切向分量的线积分建立感应 EMF;导线在组织负载中表现为天线兼传输线,耦合量随长度、走向、植入侧别、局部电场和组织电阻率变化。感应交流电流一部分在 leadwire 导体电阻上形成分布 损耗,另一部分经 tip、ring 或 pad electrode 与组织闭合,在小面积电极-组织界面形成欧姆热(FIG. 13–15)。SAR 相同而导线温升仍可不同。

远端并联 LC bandstop filter 117 在 MRI RF 频率呈高阻,能降低电极电流;但它也把导线端接变为近开路。说明书报告 RF 能量向 AIMD 侧反射并在导线内往返,滤波器近端可出现新的温升。此时 bandstop 仍处于高阻谐振状态,次生温升源于被阻能量缺少受控耗散路径。

解决机理

本篇所谓 tuned energy balance,是在导线与 EDS 之间建立频率选择性低阻通路,使导线 RF 源看到适于能量转移的负载[1]。EDS 同时承担电气回流节点与热扩散界面;较大面积、热质量及血流/体液换热把原先集中于治疗电极的能量移至远离该界面的组织[2]

对通常呈感性的植入导线,diverter 取容性电抗,使两者在目标频率“vectorially opposite”;若导线呈容性,则改用电感。设导线的目标频率等效阻抗为

则专利按 Thevenin 最大功率传输条件选择

[推导] 串联等效中的虚部相消,正电阻相加为 ;claim 1 所称“essentially cancels”不能理解为整个复阻抗变为零。分流支路的电阻用于接收功率,EDS 再把该功率扩散到较大表面。

diverter 112 可为宽带电容/低通网络,也可为串联 LC trap。[推导] 串联 trap 在

处感抗与容抗相消,支路只剩电感绕组电阻、电容 ESR 及可选串联电阻,因而向 EDS 提供低阻出口。impeder 118/120 则串在主导线中,可用电感或并联 LC bandstop;并联谐振时呈高阻[3]。低阻 diversion 与高阻 impeding 协同时,RF 电流在抵达远端电极前改道。

【关键图占位|库主定稿时补】FIG. 58 —(两根 leadwire 分别经电容接 EDS,并与串联 bandstop 配合;正文同时规定 diverter 与 bandstop 的相对位置)

等效模型及其边界:FIG. 89 把单极植入系统约化为导线等效电感 116、等效电阻 260、可选 distal bandstop 117 与 AIMD 壳体 124;导线等效量包含组织回流路径。FIG. 91 以电容 114 抵消导线感抗,FIG. 93 再加入与导线电阻相当的电阻,把 EDS 壳体作为功率负载。说明书提出用 SAMCAD 计算人体内导线轨迹上的电场矢量、感应能量与特征阻抗。

【关键图占位|库主定稿时补】FIG. 93 —(单极导线的 L/R 等效量与容性 diverter、匹配电阻及 AIMD 壳体 EDS 构成调谐能量转移模型)

该模型把空间分布的、组织负载的导线压缩为单一 。[推断] 它用于说明匹配方向,驻波位置、局部 EDS 再耦合与组织温升属于分布参数模型边界。专利允许用 35–55 cm 导线及多种植入轨迹的平均阻抗设计通用 diverter,并称与 bandstop 合用时无需完全匹配。

工程实现

宽带与单频分流。 单电容 114 随频率升高而降阻;电容与电感可组成 L、T、Pi、LL 或 n 元件低通。串联 LC trap 在单一目标频率提供更低阻抗,多支 trap 并联可分别覆盖 64、128、170、213 MHz。FIG. 85 给出 270 nH 与 22 pF 的 64 MHz 名义设计,并以可选 bandstop 隔开 trap 与宽带 EMI 电容,避免高于 trap 谐振点后出现次级并联谐振。

diverter 与 impeder 的位置。 FIG. 58 要求 diverter 位于 bandstop 的 distal electrode 侧;若 bandstop 位于电极与 diverter/EDS 之间,隔离出的远端导线段无法把能量送至 EDS,反射电流仍可集中于电极。实际 bandstop 谐振阻抗报告为约 2000 Ω。

EDS 位置与封装。 独立 EDS 161 与治疗电极的建议间距为约 0.1–10 cm(FIG. 28)。心脏实施例把导电环置于血流区;因 ring electrode 可能被组织包裹,专利另设远离 tip/ring 的 EDS。密封 distal assembly 以 tip electrode 138、EDS 161、绝缘体 182、lead 184、capacitor 114 与 inductor 116 组成,绝缘段需低热导或足够长,限制 EDS 热量回传(FIG. 34–42)。bipolar feedthrough capacitor 114c 可同时把两根 leadwire 的 RF 能量导向密封 EDS(FIG. 53–56)。

DBS 实施例把 housing 174/EDS 161 置于颅骨 166 或硬膜 172 附近,diverter 112 从 leadwire 104/106 向该表面分流(FIG. 30–32);把 EDS 移到脑内 distal tip 附近会把热沉积在热敏感脑组织,FIG. 33 将其列作错误布置。paddle electrode 则把 EDS 置于刺激电极背面(FIG. 72–76)。[推断] 对双侧皮层或 DBS 多通道导线,每条导体均需考虑 lead-to-EDS 的共模通路;复制分流元件会增加密封体积,公共 EDS 的通道间 RF 耦合量标为 [待确认]。

面积、电气长度与瞬态承载。 EDS 可用波纹、鳍片、刻蚀、多孔/分形涂层或 carbon nanotube 增加表面积(FIG. 64–68)。连续导电 EDS 若长到 MRI RF 波长的显著分数或倍数,会成为“very effective antenna”,故 FIG. 71 改用间隙隔开的短段。线绕非铁磁 mandrel 194 上的 inductor 116 以较大截面承受 4–8 A 短脉冲(FIG. 40);反并联二极管或 TVS 在 AED/defibrillation 高压事件中旁路小型 LC 元件(FIG. 59–60)。

取舍

  • 阻抗匹配与产品覆盖:导线长度、轨迹和组织回路改变 ;专利以平均值覆盖导线族,精确匹配与多型号兼容之间的容差边界标为 [待确认]。
  • MRI 分流与宽带 EMI:说明书以 75 pF 作为感抗精确抵消的算例,却允许为更宽 EMI 衰减改用 1000 pF;另处把约 1000 pF 作为降低 gradient R-C 充电风险的量级,把 4000–6000 pF 作为更强 RF EMI 滤波的量级。三组数值分别对应不同设计目标。
  • trap 带宽与耗散:低残余电阻使谐振点阻抗更低但 3 dB 带宽更窄;把电阻增至导线等效电阻可提高接收功率并放宽制造容差,却把更多热负荷置于 diverter/EDS 组件。
  • 面积与二次拾取:增大 EDS 面积降低面热通量[推导],增加连续导电长度则提高天线拾取;分段结构牺牲连续面积以限制电气长度。
  • 正常功能与保护:低通/LC 网络须放行起搏、感知及刺激信号;开关短接导线到壳体的形态只适用于扫描期可暂停治疗的系统。说明书要求非铁磁电感以避免 B0 饱和,但 claim 38 同时覆盖 ferromagnetic mandrel,[待确认] 该权利要求与实施例纪律如何协调。

Greatbatch 的较早 EDS 专利已采用低阻 diversion 与 distal impeding 的组合[4];后续多层自谐振 bandstop 专利把 EDS/diversion 作为远端高阻的互补能量出口[5]。本篇独立权项 1、75、89 把 diverter 与导线的反向电抗/阻抗抵消写入要件,侧重由导线等效阻抗决定分流器参数。

效果与证据

各组数据的对象与条件不同,不能互作温升效果证明。

【关键图占位|库主定稿时补】FIG. 43 —(单电容、L、T、Pi、LL 与 n 元件低通的 attenuation-frequency 曲线;正文只复述 64 MHz 的两个衰减值)

  • ① 既有 distal bandstop 热测:测试对象为此前 distal bandstop;说明书称在 worst-case MRI settings、bore location 与 lead configuration 下,以 distal electrode 的 fiber-optic probe 测得对照温升 30 至超过 60 °C,加入 bandstop 后多次测量把超过 30 °C 降至低于 3 °C。该组同时报告滤波器近端出现温升。
  • ② 低通频响(FIG. 43–44):正文报告 64 MHz 时单电容约 12 dB、T filter 超过 45 dB。
  • ③ 单 trap 阻抗(FIG. 45–47):串联 LC trap 在 处降至残余电阻,离谐阻抗可为 100、1000 或 10,000 Ω以上。
  • ④ 双 trap 频响(FIG. 48–52):两支并联 trap 分别在 64 MHz 与 128 MHz 提供低阻出口,支持多频拓扑。
  • ⑤ 结构与承载参数:EDS 距电极约 0.1–10 cm、bandstop 名义阻抗约 2000 Ω、线绕电感短时承载 4–8 A,均为设计范围或器件要求。

严谨性缺口:

  • 所要求保护的系统无热学验证:没有 tuned diverter + EDS 的 electrode/EDS temperature、phantom、动物或临床数据;30 °C 以上至 3 °C 以下属于既有 bandstop 方案。
  • 频域曲线来源不明:FIG. 43、47、52 未说明实测、仿真或示意,且缺元件值、仪器、端接、导线与组织负载条件;衰减和阻抗不能外推为温升降低。
  • 集总模型未覆盖分布效应:未给导线实测 、SAMCAD 输入/输出、驻波、共模/差模占比、EDS 再耦合或电磁-热联合模型;最大功率传输定理只用于单端口等效解释。
  • 匹配容差未量化:35–55 cm 平均导线设计、75 pF 对 1000 pF 的折中、implant geometry 与组织包裹变化均无参数扫描。
  • EDS 热设计未闭合:没有 EDS 面积、材料、距离、灌注、分段长度到温升的函数,也未验证 EDS 本身或 diverter 电阻/ESR 的局部自热。
  • 验证层缺失:无 ISO/TS 10974 或 ASTM F2182 条件,无正常治疗/感知插入损耗、植入后失谐、AED 旁路耐久与长期组织包裹数据。

关联

  1. tuned-energy-balance——导线复阻抗与 diverter 反向电抗/匹配电阻共同决定能量向 EDS 转移(概念卡占位)。
  2. energy-dissipating-surface——把 RF 能量移至远离治疗电极的大面积表面耗散(概念卡占位)。
  3. parallel-lc-resonance——并联 LC 谐振时呈高阻,用作主导线中的 bandstop impeder(概念卡)。
  4. US7751903B2_Greatbatch——Greatbatch 的 frequency-selective diversion、EDS 形态及 distal impeding 组合。
  5. US9468750B2_Greatbatch——多层自谐振 bandstop 实现,并把 diversion/EDS 作为互补耗散通路。