US8219208B2 Frequency selective passive component networks for active implantable medical devices utilizing an energy dissipating surface
摘要
- 问题:MRI 脉冲 RF 场沿植入导线感应 EMF,驱动导线损耗电流及远端电极-组织界面电流;能量集中在 tip、ring 或 pad electrode 附近时可造成局部过热、组织损伤与治疗失效。
- 方案:在 AIMD 导电外壳内设置 frequency-selective diversion circuit,使 MRI RF 能量由导线或导线连接器旁路到外壳 energy dissipating surface(EDS);可在 diversion 与 AIMD 电子电路之间串入 impeding circuit,抬高器件侧 RF 阻抗。diverter 可用宽带电容/低通网络或串联 LC trap,impeder 可用电感或并联 LC bandstop。
- 效果:FIG. 37 报告 64 MHz 下单电容约 12 dB、T 型低通超过 45 dB 的衰减;FIG. 44 给出分别调谐至 64 MHz 与 128 MHz 的双串联 LC trap。
- 形态:56 claims;授权独立权项覆盖壳内 diversion、diversion 与 impeder 组合、两个 diverter 夹一只 impeder,以及把 AIMD 导电外壳定义为 EDS 的结构。说明书还覆盖 pacemaker、ICD、DBS、neurostimulator、probe/catheter 与 abandoned lead。
原理与方案
标注:引号内英文 = 专利 raw 原文;[推导] = 由专利参数与电路模型推出的结论,非专利原文;[推断] = 按 RF/工艺常识的判断,专利未述;[待确认] = 专利未给、需另行定夺的输入或判断。
失效机理
MRI RF 电场沿导线切向分量的线积分建立感应 EMF;耦合量随导线长度、植入轨迹、局部电场和组织负载改变。专利把长导线视为组织中的低效率天线及传输线,强 RF 场可补偿组织阻尼。SAR 相同的扫描条件仍可能因导线几何不同而产生不同温升,因此 “SAR level alone is not a good predictor”。
氢成像 RF 频率服从 Larmor 关系 ;专利以 1.5 T≈64 MHz、3 T≈128 MHz 为主要设计点[1]。感应交流电流在导线电阻上形成分布 损耗,并经 distal tip、ring 或 pad electrode 与组织闭合,在小面积电极-组织界面形成欧姆热。tip/ring 被组织包裹后失去名义上的血流冷却,ring electrode 不能稳定承担 EDS 功能(FIG. 25–26)。
差模 EMF 可在两根 leadwire 之间闭合;共模能量须由各导体分别耦合至 sheath、shield 或 AIMD housing。专利据此并列 line-to-line diversion 与 lead-to-EDS diversion:前者把差模 RF 留在导线环流中,后者为共模电流提供通往大面积导体的出口。只设跨线元件时,共模电流没有被转移到外壳的明确通路[推导]。
解决机理
diversion circuit 在 MRI RF 频带呈低阻抗,把电流从导线连接器/壳内导体分流到导电外壳;impeding circuit 串在 diversion 与 AIMD electronics 之间,在同一频带呈高阻抗,使 RF 电流优先进入外壳。外壳 124 兼具导电面积与热质量,且 pacemaker/ICD/DBS pulse generator 通常位于肌肉、脂肪或皮下囊袋,热沉积位置远离心肌、脊髓或脑内电极(FIG. 72–74)。
电容 diverter 的容抗 随频率升高而下降,可作宽带 RF 旁路。若 diverter 采用串联 LC trap,电感与电容在目标频率处电抗相消,[推导] 谐振频率为
支路阻抗降至电感电阻与 capacitor ESR 构成的残余电阻。impeder 若采用并联 LC bandstop,谐振时两支路无功导纳相消,对主导线呈高阻抗[2]。两种 LC 的器件相同而连接方式相反:串联 LC 为 RF 提供低阻耗散出口,并联 LC 阻断 RF 继续流向电子电路或远端电极。
【关键图占位|库主定稿时补】FIG. 74 —(AIMD 导电外壳 124 作为 EDS 160,壳内 diverter 112把 lead 104 的 RF 能量引至外壳,impeder 118及远端 bandstop 117限制其流向电子电路和组织)
工程实现
壳内网络与馈通。 Claims 1、22、24、25、32、38、45、50把 diversion circuit 放在 AIMD housing 内或接于 implantable lead receptacle 与壳内 conductor,导电外壳同时隔绝体液并承担 EDS。FIG. 45–48 的 bipolar feedthrough capacitor 114把两根 leadwire 104、106分别旁路到 EDS 160,专利将其作为宽带高频旁路。说明书称普通 MLCC 的内部电感可能使其在约 400 MHz 或更高频率自谐振,feedthrough capacitor 用于扩展至 10 T≈426.5 MHz 的场景。
diverter 拓扑。 单电容是最少元件的宽带方案;与一只或多只电感组合,可形成 L、T、Pi、LL 或 n-element low-pass。串联 LC trap 在一个目标频率形成低阻,多个 trap 并联可覆盖多个场强;FIG. 41–44 以两只 trap 分别覆盖 64 MHz 与 128 MHz。trap 残余电阻越低,谐振点分流越强而 3 dB 带宽越窄;专利允许保留电阻 208以展宽带宽并降低制造调谐难度。
impeder 与级联。 串联电感 116在 RF 频带升阻;并联 LC bandstop 117在谐振点呈高阻。FIG. 81 将 capacitor diverter、bandstop impeder 和带电阻的串联 LC trap 依次布置;FIG. 82–83允许多级重复、交换次序,或把多个 diverter 并联、多个 impeder 串联。Claims 45–49把 impeder 放在第一、第二 diverter 之间,使进入壳体的 RF 电流在 impeder 两侧均有外壳旁路。
【关键图占位|库主定稿时补】FIG. 81 —(壳内多级组合以 capacitor diverter、并联 LC bandstop impeder 和串联 LC trap共同控制 RF 去向)
无源元件、载流与封装。 专利偏好非铁磁 passive components,避免 B0 使铁磁芯饱和并改变电感。FIG. 34 的电感 116绕在陶瓷或塑料 non-ferromagnetic mandrel 206上,相比 chip inductor 提供更大导体截面;AED/defibrillation 可在植入导线上诱发 “4 to 8 amp range in short bursts”。FIG. 51 的反并联二极管 210a、210b及 FIG. 52 的 transient voltage suppressor 212a、212b在高压时旁路小型 LC 元件。
EDS 的空间与尺寸约束。 导电外壳面积大且远离治疗界面,是本件授权权项的主要耗散形态。说明书的导线侧实施例把 EDS 与 distal electrode 的距离取约 0.1–10 cm,并以血流、脑脊液或低敏感组织带走热;波纹、鳍片、粗糙面和多孔涂层可增大表面积(FIG. 56–60)。连续 EDS 若电气长度成为 MRI RF 波长的显著分数或倍数,会由耗散体转为接收天线(“it would become a very effective antenna”),FIG. 63 因而将其分段。
多通道植入物。 FIG. 27 为 quad-polar neurostimulation lead 的每根导体配置 diversion,并可在电极侧增加 impeder;FIG. 64–68把 EDS 置于 paddle electrode 的背面;FIG. 69–71把 DBS EDS 放在颅骨外侧。[推断] 壳内集成把较大的滤波元件留在 pulse generator 内,可减小 distal segment 直径;对双侧皮层/DBS 多通道导线,每条独立导体均需确定共模旁路和差模回流路径,元件数量、外壳连接电感及通道间耦合会随通道数增加。
取舍与适用边界
- 宽带/体积:电容或多级 low-pass 可覆盖多个 MRI RF 频率,级数增加会增加壳内面积与寄生参数;串联 LC trap 体积效率较高,但每只主要覆盖一个谐振频点。
- 分流深度/制造容差:降低 trap 残余电阻可减小谐振点阻抗,同时收窄 3 dB 带宽;增加电阻便于调谐,却使更多 RF 残留在导线。
- 耗散面积/二次耦合:增大 EDS 面积可降低单位面积热通量[推导],增加连续导电长度则提高 RF 拾取风险;壳体尺寸、分段长度和接地电感共同限定可用面积。
- 正常功能/高压事件:网络须让低频起搏、感知和刺激信号通过;AED 旁路元件还须在安培级短脉冲下保护 LC 网络,并在正常信号幅度下保持截止。
- 热转移位置:diversion 不消除吸收能量,只把热沉积移到外壳或独立 EDS。若 EDS 靠近 active-fixation housing 或脑内电极,热仍会进入敏感组织;FIG. 29B把这一位置错误画为会导致脑组织过热的反例。
本件与 US7751903B2 的 diversion/impeding/EDS 架构重合,差别在本件授权独立权项集中于 AIMD housing 内的网络及以外壳作为 EDS,而 US7751903B2 侧重植入导线沿程与远置 EDS 的组合[3]。Greatbatch 后续多层自谐振带阻专利把并联 LC impeder 置于导线电极侧,并明确需配 diversion circuit 将反射 RF 能量耗散至 AIMD housing[4];“阻断敏感端 + 提供低阻耗散出口”是这组专利复用的系统架构。
效果与证据
- ① 低通频响(FIG. 37–38):比较 single-element、L、T、Pi、LL 与 n-element low-pass 的 attenuation-frequency 曲线。正文报告 64 MHz 下单电容约 12 dB、T 型超过 45 dB。
- ② 单一串联 LC trap(FIG. 39–40):FIG. 40 以 impedance-frequency 曲线表示 处阻抗降至残余电阻 208,离谐阻抗可为 100、1,000 或 10,000 Ω以上。
- ③ 双串联 LC trap(FIG. 41–44):两支 trap 并联接在 lead 194与 EDS 160之间,分别调谐至 64 MHz 和 128 MHz;该组支持多频旁路的拓扑可行性。
- ④ 高频理想模型(FIG. 9、FIG. 24):以闭合开关表示低阻 diverter、开路表示高阻 impeder,得到 distal electrodes 在 RF 频带被隔离的极限模型。该模型是频率选择行为的示意,不是器件级仿真或测试。
- ⑤ 热学效果陈述:专利称能量分散至大面积 catheter body 或 AIMD housing 后温升为 “just a few degrees”,证据形态为设计断言。
【关键图占位|库主定稿时补】FIG. 37 —(不同阶数 low-pass 的 attenuation-frequency 曲线,正文报告 64 MHz 时单电容约 12 dB、T 型超过 45 dB)
严谨性缺口:
- 无热学验证:无 electrode/EDS/housing 温升、phantom、ASTM、动物或临床测试;未把频域衰减闭合到组织温度与损伤阈值。
- 频响来源与条件缺失:FIG. 37、40、44 未标明实测、SPICE 或解析来源;缺少 L/C/R、source/load impedance、导线长度、组织负载、样品数及误差。
- 模型忽略分布效应:开关模型未包含导线分布参数、共模/差模转换、housing/feedthrough 寄生电感、EDS 再耦合、热扩散和灌注;数字不能直接外推到植入系统。
- 器件可行性未定量:未给 64/128 MHz 网络的具体元件值、封装尺寸、额定电流、耐压或 B0 下参数漂移;10 T/feedthrough 适用性仅由自谐振频率论述。
- 空间参数未验证:EDS 距离 0.1–10 cm、表面积增强、分段长度、颅骨/硬膜耗散及多通道复制均无阻抗或温升映射。
- 验证层缺失:未对应 ISO/TS 10974 或 ASTM F2182 的扫描条件、端点与合格判据;本篇只能提供机理层和工程形态证据。
关联
- Google Patents:https://patents.google.com/patent/US8219208B2/en
- 危害:rf-heating
- larmor-frequency——MRI RF 频率随主磁场变化,1.5 T 约 64 MHz、3 T 约 128 MHz(概念卡)。
- parallel-lc-resonance——并联 LC 谐振时呈高阻抗,用作串联于导线的 bandstop impeder(概念卡)。
- US7751903B2_Greatbatch——植入导线沿程的 diversion/impeding/远置 EDS 实现。
- US9468750B2_Greatbatch——多层自谐振 bandstop impeder,并以 AIMD housing diversion 承接被阻断的 RF 能量。